Intel：10nm今年年底即将上架！2021年7nm上马 Xe独立显卡首发

　　Intel今天举行了两年来的第一次投资者会议，新任CEO司睿博亲自上阵，向投资者们披露了大量未来产品和技术规划。

　　首先是工艺方面，Intel承认在10nm工艺上冒险太大，设置了过高的技术指标，导致一再延期，未来会在新工艺开发中重新定义预期指标，不一味过高追求。

　　具体来说，14nm工艺(对标台积电10nm)会继续充实产能，满足市场需求。10nm工艺(对标台积电7nm)消费级产品今年年底购物季上架，服务器端明年上半年。

　　Intel 7nm工艺将对标台积电5nm，目前的计划是2021年就投产并发布相关产品。

　　这距离10nm量产上架还不到两年时间，显然是大大加速了，看起来Intel真的充分汲取了10nm上的教训，应该对7nm进行了调整，以加速上市。

　　同时，Intel会持续像现在的14nm一样，对每一代新工艺持续进行优化，也就是会继续出现很多+++版本，但不会像台积电、三星那样改进一下就是新名字(11nm/8nm/6nm)。

　　10nm今年上阵，明后年将接连出现10nm+、10nm++；7nm 2021年登场，2022年、2023年则连续推出7nm+、7nm++。

　　7nm工艺上Intel会第一次使用EVU极紫外光刻，但不确定是初代就加入，还是类似台积电等待改进版的第二代。