外媒最近整理了iPhone 16 Pro的详细配置的爆料信息,表示iPhone 16 Pro和iPhone 16 Pro Max今年将会有30处改进和优化。
除了详细的配置信息的对比,还有爆料称,苹果正测试新的抗反射光学涂层技术,可以减少镜头炫光和鬼影等伪影,从而提高照片质量。
爆料人“yeux1122”最近在Naver博客上爆料称,他从苹果供应链处获悉,苹果目前在测试新的抗反射光学涂层技术。供应链消息称苹果正在考虑在iPhone相机镜头制造工艺中,引入新的原子层沉积(ALD)设备。
根据介绍,原子层沉积(Atomic layer deposition,ALD)是一种基于连续使用气相化学过程的薄膜沉积技术,将物质以单原子膜形式逐层镀在衬底表面的方法。ALD是一种真正的纳米技术,以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积。
具体到镜头方面:ALD工艺主要用来喷涂抗反射涂层,这有助于减少摄影伪影。例如当太阳等强光源直接照射镜头时,最终拍摄的图像中可能出现条纹和光晕,而ALD可以减少这些图像失真现象。此外,ALD应用材料可以防止环境对相机镜头系统造成损害,同时又不会影响传感器有效捕捉光线的能力。
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